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이우재 (부산대학교) 만지흠 (부산대학교) 김다영 (부산대학교) 장경수 (서영) 최현진 (부산테크노파크) 최우창 (부산테크노파크) 권세훈 (부산대학교)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제50권 제1호
발행연도
2017.2
수록면
35 - 41 (7page)

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TiO₂, Al₂O₃, and TiO₂-Al₂O₃ nanolaminated films were grown by atomic layer deposition (ALD) on the 316L stainless steel (SS316L) substrates at a temperature of 150 °C. The growth kinetics of ALD-TiO₂ and Al₂O₃ thin films were systematically investigated in order to precisely control the thickness of each layers in the TiO₂-Al₂O3 nanolaminated films using a high-resolution transmission electron microscopy. And, the exact deposition rates of ALD-TiO₂ on Al₂O₃ surface and ALD-Al₂O₃ on TiO₂ surface were revealed to be 0.0284 nm/cycle and 0.11 nm/cycle, respectively. At given growth conditions, the microstructures of TiO₂, Al₂O₃ and TiO₂-Al₂O₃ nanolaminated films were amorphous. The potentiodynamic polarization test revealed that the TiO2-Al2O3 nanolaminated film coated SS316L had a best corrosion resistance, although all ALDcoated SS316L exhibited a clear improvement of the corrosion resistance compared with a bare SS316L.

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References

참고문헌 (21)

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